中经联播讯 在精密制造的世界里，精度是不可动摇的信仰。当透射电子显微镜（TEM）能够捕捉原子级的微观影像时，其调试误差需控制在纳米尺度；而电子束光刻系统雕刻芯片电路时，微米级的精度偏差就可能导致整个晶圆报废。陈泽威，这位深耕光学设施与光刻设备维护领域的青年技术专家，用从原子到光刻的精度追求，诠释着精密制造背后最纯粹的技术信仰。

兰州大学材料物理本科的学习，让陈泽威建立起“从原子级视角看问题”的思维，理解到精密制造的精度控制本质是对物质本质规律的遵循；南加州大学机械工程硕士阶段的研究，则让他掌握了将微观认知转化为设备运行误差量化控制的能力，为后续在精密设备领域的深耕筑牢了基础。

2018年加盟赛默飞世尔上海公司时，陈泽威接手的是透射电子显微镜（TEM）的维护工作——这种能“直视原子”的尖端设备，对维护精度的要求苛刻到需以原子直径为单位（约0.1纳米）。在一次次调试电子枪聚焦精度、校准物镜像差的过程中，他逐渐领悟：“精度控制从来不是某一个部件的单点优化，而是真空系统、电子光学系统、机械传动系统等全链条的协同平衡。”这种系统思维，成为他日后处理复杂技术问题的核心准则。

2023年转入北京锐时科技后，他的工作重心转向电子束光刻系统维护。如果说TEM的精度追求是“看清原子”，那么电子束光刻则需要“雕刻原子级图案”——将设计好的电路图案以纳米级精度转移到晶圆上，任何微小偏差都可能导致整片芯片报废。这段经历让他完成了从“观测精度”到“制造精度”的关键跨越，也让他的研究理论更贴近产业实际：“真正的精度控制，既要能在实验室实现极限参数，更要在量产场景中保持稳定可靠。”

“再熟练的工程师，也会有0.1%的人为误差，但在精密制造领域，这0.1%往往就会导致100%的失败。”基于这两段工作中对精度的极致探索，启发了陈泽威着手研发“高级电子束曝光机维护与诊断系统V1.0”，试图用数字化手段将积累的精度控制经验转化为可复制的系统方案。“高级电子束曝光机维护与诊断系统V1.0”通过预设300+故障模式识别算法，将传统依赖经验的“手感调试”转化为可量化的参数优化，使维护精度的一致性提升35%。这一系统的出现，改变了行业内传统维护方式效率低、精度不稳定的局面，推动了光学设施设备维护向智能化、精准化方向发展。

而他的另一成果：《电子束曝光技术：原理、操作与维护》，则是陈泽威精度控制方法论的系统输出。书中通过分析300多台设备的运行数据，揭示了电子光学系统性能随时间变化的规律，为行业提供了可复用的预防性维护框架。“技术不应该是秘而不宣的经验，而要成为可传承的标准。”这种开放共享的态度，让他的精度信仰从个人追求升华为行业共识，为行业培养专业人才、规范操作流程提供了重要的知识支撑，促进了整个行业技术水平的提升。

从TEM的材料微观分析，到电子束光刻的芯片图案制造，陈泽威的职业轨迹恰好构成精密制造的完整闭环。在半导体设备自主化的浪潮中，他的价值不仅在于解决了多少技术难题，更在于建立了一套可复制的精度控制体系——为“中国制造”向“中国精造”转型提供了关键支撑。他的技术创新和经验分享，带动了整个光电设施设备行业技术的提升，增强了我国在该领域的自主研发能力和国际竞争力，为行业的持续健康发展注入了强大动力。

当被问及为何执着于精度时，陈泽威的回答朴素而坚定：“在原子世界里，误差是不存在的，它们永远遵循物理规律。人类的技术进步，就是无限逼近这种自然精度的过程。”这位从原子到光刻的精度守护者，正用他的技术信仰，为中国精密制造丈量着向极致进发的每一步。（文/关以沪）